Az Imec, a belgiumi székhelyű, neves félvezető-kutató vállalat bejelentette, hogy az ASML-lel közös laboratóriumában egy sor áttörést értek el a chipgyártásban. A labor júniusban nyitotta meg kapuit azzal a céllal, hogy az ökoszisztéma-partnerek számára korai hozzáférést biztosítson a legfejlettebb chip-levilágító technológiákhoz, a prototípus szkennerekhez.
Az ASML holland chiplevilágítóberendezés-gyártó Európa csúcstechnológiás törekvéseinek egyik legfontosabb végrehajtója, és – az Imec szerint – a technológia alkalmazása máris lenyűgöző eredményeket hozott.
Sikeres volt az első logikai chipek áramköri mintáinak nyomtatása 9,5 nm-es sűrűséggel, ami 19 nm-es osztásköznek és 20 nm alatti valós csíkszélességnek felel meg. Ez lényegében az eddiginél lényegesen kisebb méretű és nagyobb elemsűrűségű áramköröket jelent, amelyek nagyobb teljesítményű és hatékonyabb chipeket eredményezhetnek.
Az Imec bemutatta a High NA litográfia azon képességét is, hogy lehetővé teszi a logikai chipek 2D-s vezetékezés-tervezését: a chip egyetlen rétegén bonyolult útvonalak létrehozásának folyamatát, amelyek a különböző alkatrészek vagy áramköri elemek összekapcsolására szolgálnak. Elmondták azt is, hogy sikerült egyetlen expozícióval levilágítani teljes DRAM chipek rajzolatát. A DRAM-chipekhez jellemzően többszörös expozícióra volt szükség, ami azt jelenti, hogy az egyetlen expozícióra való csökkentés jelentősen csökkentheti a gyártási költségeket. A logikai chipek mintáit szintén egyetlen expozícióval nyomtatták ki.
A „high NA” kifejezés magyarul magas numerikus apertúra, azaz nagy látószög, kisebb fókusztávolság, ami kisebb méretű levilágító berendezést eredményez. Az extrém ultraibolya fénynek még kisebb a hullámhossza, mint a nem extrémnek, ezért annál finomabb rajzolatokra képes, magasabb felbontású. A High NA gép az extrém ultraibolya (EUV) litográfiai rendszerek legújabb fejlesztését képviseli, amelyek fényt használnak a chipminták szilícium ostyákra történő rajzolásához. Ez az ASML eddigi legmodernebb eszköze.
Az Imec szerint ezek a korai demonstrációk megerősítik az ASML azon állításait, hogy a High NA gépek kisebb, gyorsabb és energiatakarékosabb chipek gyártására képesek. „A High NA EUV ezért rendkívül fontos szerepet fog játszani a logikai és memóriatechnológiák méretbeli skálázásának folytatásában”, mondta Luc Van den hove, az Imec elnök-vezérigazgatója. Szerinte ezek a demonstrációk felgyorsítják ezen eszközök gyártásba való bevezetését.
A jelentések szerint az Intel volt az első, aki idén májusban megvásárolta az ASML High NA gépeit. A vásárlók listáján szerepel még a Samsung és a chipóriás TSMC is, bár utóbbi kezdetben szkeptikusan állt a technológiához.
Forrás: itbusiness.hu
Kép forrása: iStock