Átszervezéssel szedné ráncba gyártását az Intel

Az Intel három részre osztja a félvezetőgyártó és a technológiákat fejlesztő részlegét.

Komolyan átszervezi félvezetőgyártással, illetve az egyes technológiák kutatásával és fejlesztésével foglalkozó Technology and Manufacturing Group részlegét az Intel – közli megbízható forrásokra hivatkozva az OregonLive. A lépésnek több apropója is lehet, az elmúlt években több problémával is szembesült csoportot 2016 óta vezető Sohail Ahmed ugyanis a következő hónapban visszavonul. Ugyancsak az átszervezés mellett szólhat, hogy a chipgyártó jelen állás szerint legalább két éves lemaradásban van korábbi terveihez képest, amely késés akár 3 évre is nyúlhat. A 10 nanométeres technológiának ugyanis 2016-ban kellett volna tömeggyártásba kerülnie, amelyhez képest legkorábban jövő év közepén érkezhetnek a technológiára épülő, széles körben elérhető termékek.

Az említett forrás szerint az Intel különválasztja a kutatást és a fejlesztést (Development), a gyártást és az üzemeltetést (Manufacturing and Operations), illetve az ellátási láncot (Supply Chain). A K+F részleget az Intel egyik hillsborói veteránja, Mike Mayberry vezeti majd. A szakember 1984 óta dolgozik a vállalatnál, 2015 óta pedig a kifejezetten kutatással foglalkozó Intel Labs műszaki vezérigazgatójaként tevékenykedik. A gyártást és az üzemeltetést egy szintén Hillsboróból érkező szakemberre, Ann Kelleherre bízza a cég vezetése. Kelleher 2001 óta szolgálja az Intelt, 2006 óta pedig kizárólag félvezetőgyártással kapcsolatos magasabb pozíciókat töltött be Írországtól Arizonáig. Végül, de nem utolsó sorban az ellátási láncért felelős részleg vezetését Randhir Thakurra bízták, aki vélhetően a félvezetős technológiákkal foglalkozó Applied Materialstól érkezett az Intelhez. Mindhárom részleg, illetve az azt vezető szakemberek Dr. Venkata “Murthy” Renduchintala alá sorakoznak be.

Az egyelőre nem kommunikált átszervezés mögött az elmúlt évek pofonjai állhatnak. A gyártási nehézségek már 14 nanométeren felütötték fejüket, a technológia felfuttatása ugyanis az eredeti tervekhez képest sokkal lassabban haladt. Az eljárás az eredetileg tervezetthez képest nagyjából 1 évvel később került tömegtermelésbe, ami igencsak tetemes csúszás. A vállalat saját bevallása szerint az indulást az tolta el, hogy a korábbiakhoz képest jóval több tesztelési kört kellett teljesíteni. A 14 nanométernél ugyanis az Intel egy új megközelítést vezetett be a megvilágítás előtti maszkoláshoz: a vállalat korábban kevesebb általános litográfiás maszkot alkalmazott a gyártás során, az új eljárás azonban több, a processzor részeire külön optimalizált maszkot használt.

Az igencsak ambiciózus paraméterekkel rendelkező 10 nanométeren még mélyebb pocsolyába lépett az Intel. A vállalat egy korábbi negyedéves pénzügyi eredményeit taglaló konferencián az azóta lapátra tett Brian Krzanich elárulta, hogy túllőttek célon a 10 nanométer specifikációval, az eljáráshoz párosított elvárások túl agresszívnek bizonyultak, amelyeket a fejlesztőcsapat továbbra is képtelen teljesíteni. Jelen állás szerint valamikor jövő év közepén kerülhet tömegtermelésbe a hányattatott sorsú 10 nanométer, ám mindeközben a bérgyártók hasonló paraméterekkel rendelkező fejlesztései lassan elkészültek, melyeket a konkurensek meglovagolva kellemetlen helyzetbe hozhatják a továbbra is vezető nélkül árválkodó Intelt.

forrás: hwsw.hu